清洗剂
高化学是日本PARKER株式会社在中国的代理，PARKER是日本最为知名的清洗剂产品制造商之一，年营业额超过2亿美元，Parker在中国的清洗剂工厂设在上海松江，已经建成运营，能为中国客户提供更加便捷优质的产品和服务。
.gif){kind=small}
产品名录
玻璃基板清洗剂
|
种类 |
品名 |
PH （1%） |
推荐条件 |
特长 |
|
|
浓度 |
温度 |
||||
|
无机系洗净剂 |
PK-LCG22 |
～12.5 |
1～5% |
RT～ |
低于纸痕迹等严重的污垢洗净效果佳。 |
|
PK-LCG25 |
～12.0 |
1～5% |
RT～ |
润湿性良好。低COD。低发泡。 |
|
|
PK-LCG26 |
～11.7 |
1～5% |
RT～ |
标准版。 |
|
|
PK-LCG201 |
～11.9 |
1～5% |
RT～ |
标准型，能适用于触摸式配电板。 |
|
|
PK-LCG211 |
～12.1 |
1～5% |
RT～ |
适用于研磨材、碎玻璃的洗净。 |
|
|
PK-LCG213 |
～12.1 |
1～5% |
RT～ |
对去除玻璃屑和研磨材料很有效果。 |
|
|
PK-LCG214 |
～12.3 |
1～5% |
RT～ |
对于纸痕迹、膜粘合材料的洗净效果佳。 |
|
|
PK-LCG217 |
～11.7 |
1～5% |
RT～ |
对于纸痕迹、膜粘合材料、碎玻璃的洗净效果佳。 |
|
|
PK-LCG226 |
～12.0 |
1～5% |
RT～ |
对于粘合材料的清洗有极大的效果。 |
|
|
有机系洗净剂 |
PK-LCG44 |
～11.8 |
1～10% |
RT～ |
标准版，低COD。 |
|
PK-LCG44S |
～11.8 |
1～10% |
RT～ |
可适用于TFT。适用于有机质等严重的脏污。 |
|
|
PK-LCG46 |
～11.5 |
1～10% |
RT～ |
对于严重的脏污效果佳。 |
|
|
PK-LCG407 |
～11.9 |
1～5% |
RT～ |
对于纸痕迹、缓冲材的洗净效果佳。 |
|
|
PK-LCG436 |
～12.0 |
1～10% |
RT～ |
无金属型。低发泡性。对粘着污垢效果大。 |
|
|
PK-LCG451N |
～7.5 |
1～10% |
RT～ |
适用于铝材基板。中性且洗净力强。低发泡性。 |
|
|
PK-LCG452N |
～7.7 |
1～10% |
RT～ |
适用于铝材基板。低COD。 |
|
|
PK-LCG453N |
～7.4 |
1～10% |
RT～ |
中性标准型。低发泡。低COD。 |
|
|
PK-LCG |
～2.0 |
1～5% |
RT～ |
酸性。适用于粘着剂的洗净。 |
|
太阳能电池生产工程洗净剂
|
结晶系硅锭切割后洗净剂 |
品名 |
用处 |
推荐条件 |
特长 |
|
|
浓度 |
温度 |
||||
|
PK-PVS606 |
粗清洗 |
1～5% |
RT～ |
弱碱性型。浸透力大。 |
|
|
PK-PVS610N |
粗清洗 |
1～10% |
RT～ |
中型标准型 |
|
|
PK-PVS612N |
粗清洗 |
1～5% |
RT～ |
对于研磨液有良好的清洗力。 |
|
|
PK-PVS604D |
最终清洗 |
1～5% |
RT～ |
标准型。 |
|
|
PK-PVS608 |
最终清洗 |
1～5% |
RT～ |
冲洗性良好。 |
|
|
薄膜系太阳能电池洗净剂 |
品名 |
推荐条件 |
特长 |
|
|
浓度 |
温度 |
|||
|
PK-PVT210 |
1～5% |
RT～ |
标准型。 |
|
|
PK-PVT220 |
1～5% |
RT～ |
对顽固的污垢效果大。 |
|
|
PK-PVT250 |
1～5% |
RT～ |
对于捆包痕迹和有机物的清洗效果很好。 |
|
|
PK-PVT400 |
1～5% |
RT～ |
有机碱型。清洗能力大。 |
|
|
结晶系Texture形成前洗净剂 |
品名 |
推荐条件 |
特长 |
|
|
浓度 |
温度 |
|||
|
PK-PVE100 |
5～10% |
RT～ |
标准型。 |
|
|
PK-PVE120 |
5～10% |
RT～ |
特别适合有机物的清洗，对顽固的污垢效果大。 |
|
|
PK-PVE130 |
5～10% |
RT～ |
无机碱型。对于手套触摸痕迹等顽固的污垢，有很大的清除性。 |
|
显影剂
|
项目 |
PK-DEX1010 |
PK-DEX1510 |
PK-DEX4000 |
PK-DEX4310 |
消泡剂G3 |
|
负型光阻 |
负型光阻 |
正/负型光阻 |
正/负型光阻 |
正/负型光阻 |
|
|
化学类型 |
Na2CO3系 |
KOH系 |
TMAH系 |
TMAH系 |
表面活性剂 |
|
推荐浓度 |
5～10% |
1～5% |
原液 |
30～50% |
500～1000ppm |
剥离剂
|
项目 |
PK-SFR8110 |
PK-SFR8120 |
PK-SFR8130 |
PK-SFR8510 |
|
正型光阻 |
正型光阻 |
感光干薄膜 |
正型光阻 |
|
|
化学类型 |
有机碱性 |
有机中性 |
有机碱性 |
无机碱性 |
|
推荐浓度 |
50%～原液 |
30%～原液 |
5～10% |
30～50% |
水溶性EBR剂
|
项目 |
PK-CRD620 |
PK-CRD648 |
PK-CRD650 |
PK-CRD653 |
PK-CRD691 |
|
正/负型光阻 |
正/负型光阻 |
正/负型光阻 |
正/负型光阻 |
光阻间隔剂 |
|
|
化学类型 |
无机碱性 |
有机碱性 |
有机碱性 |
有机碱性 |
有机碱性 |
|
推荐浓度 |
5～35% |
20～40% |
10～35% |
10～35% |
10～20% |
